Gigaphoton 推出 hTGM 新型氖气回收系统，回收率达50%

日本半导体光刻设备制造商 Gigaphoton 推出了新型氖气回收系统 hTGM，用于氟化氩(ArF)准分子激光器。该系统可实现50%的氖气回收率，并有望通过调整配置进一步提升回收效率。新技术有助于缓解芯片供应链中的氖气短缺问题。