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Gigaphoton 推出 hTGM 新型氖气回收系统
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AI 综述
日本半导体光刻设备制造商 Gigaphoton 在2026年10月推出了新型氖气回收系统 hTGM，用于氟化氩(ArF)准分子激光器。该回收系统的初始回收率达到了50%，并且有望通过调整配置进一步提升回收效率。新技术旨在缓解芯片供应链中的氖气短缺问题。
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最新进展10月6日 23:09
Gigaphoton 推出的新型氖气回收系统 hTGM 实现了50%的回收率，并有潜力通过调整配置提高回收效率。报道时间线
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10月6日
- 同花顺·国际财经Gigaphoton 推出 hTGM 新型氖气回收系统，回收率达50%
日本半导体光刻设备制造商 Gigaphoton 推出了新型氖气回收系统 hTGM，用于氟化氩(ArF)准分子激光器。该系统可实现50%的氖气回收率，并有望通过调整配置进一步提升回收效率。新技术有助于缓解芯片供应链中的氖气短缺问题。
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